作者:
站长小白
时间:2025-03-26
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俄罗斯成功研发出首台光刻机,其精度达到350nm,标志着该国在半导体制造领域取得了重大进展,预计明年,俄罗斯将进一步进军到更先进的130nm技术时代,这一成就对于全球半导体行业来说具有重要影响,有望改变全球半导体市场的格局和竞争态势。...
作者:
站长小白
时间:2025-03-26
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莫斯科将生产俄罗斯首台350nm光刻机,标志着俄罗斯在半导体制造领域迈出了重要的一步,这一举措有望提升俄罗斯的半导体生产能力,减少对外部供应链的依赖,并推动本土半导体产业的发展,光刻机是半导体制造中的核心设备之一,其制造水平直接关系到芯片的性能和制造工艺的先进性,此次光刻机的研发生产将为俄罗斯半导体产业注入新的活力,有望促进相关领域的科技进步和经济发展。...
作者:
站长小白
时间:2025-03-25
阅读: 6898
中科院成功研发全固态DUV光源技术,该技术能够生产高精度的3nm芯片制造所需的光源,这一技术不同于ASML的光源技术,具有更高的自主性和创新性,全固态DUV光源技术的成功研发将有望提高国内芯片制造产业的竞争力,推动科技创新和产业升级。...